誤っている記述はイ・ロ・ハ・ホの4件。
令和7年度 ガス主任技術者 甲種 ガス技術 問5
(ガ)問5 都市ガスの付臭及び付臭設備に関する次の記述のうち、誤っているものはいくつあるか。
イ 蒸発方式の設置場所は、一般に圧力、温度の変動が小さく、管内ガス流速の小さいところが望ましい。
ロ ポンプ注入方式は、小容量のダイヤフラムポンプ等により付臭剤を直接ガス中に注入する方式であり、小規模の付臭設備に適している。
ハ パネル法による臭気濃度の測定において、希釈倍数500倍でにおいあり、1000倍でにおいあり、2000倍でにおいあり、4000倍でにおい無し、8000倍でにおいありの場合、このパネルの感知希釈倍数は、2000倍となる。
ニ 付臭剤濃度測定法の1つであるFPD付ガスクロマトグラフ法は、試料ガスをガスクロマトグラフの分離管で各成分に分け、検出器に導入し、還元性の水素炎中で燃焼させることで発する特有の炎光を光学フィルターで分光して定量するものである。
ホ 都市ガスの代表的な付臭剤であるターシャリープチルメルカプタン(TBM)、テトラヒドロチオフェン(THT)、ジメチルサルファイド(DMS)、シクロへキセンは、いずれも硫黄元素を含む化合物である。
選択肢
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イ:蒸発方式の付臭では付臭剤の蒸発に必要な流れを確保し、管内流速が小さい場所が望ましいとはいえない。 ロ:ポンプ注入方式は注入量を制御でき大きな処理量にも対応する。小規模設備向きと限定するのは誤り。 ハ:パネル法では希釈倍数が増すほど無臭側に移るはずで、4000倍で無臭・8000倍で有臭という系列から2000倍とするのは誤り。 ニ:FPD付きGCは分離した硫黄化合物を水素炎で燃焼させ、特有の炎光を分光・測定する。 ホ:シクロヘキセンには硫黄が含まれないため、列挙した全てが硫黄化合物ではない。
各選択肢の解説
- 1
1個
誤っている記述はイ・ロ・ハ・ホの4件であり、1件ではない。イ:蒸発方式の付臭では付臭剤の蒸発に必要な流れを確保し、管内流速が小さい場所が望ましいとはいえない。
- 2
2個
誤っている記述はイ・ロ・ハ・ホの4件であり、2件ではない。ロ:ポンプ注入方式は注入量を制御でき大きな処理量にも対応する。小規模設備向きと限定するのは誤り。
- 3
3個
誤っている記述はイ・ロ・ハ・ホの4件であり、3件ではない。ハ:パネル法では希釈倍数が増すほど無臭側に移るはずで、4000倍で無臭・8000倍で有臭という系列から2000倍とするのは誤り。
- 4
4個
誤っている記述はイ・ロ・ハ・ホの4件。ニ:FPD付きGCは分離した硫黄化合物を水素炎で燃焼させ、特有の炎光を分光・測定する。
- 5
5個
誤っている記述はイ・ロ・ハ・ホの4件であり、5件ではない。ホ:シクロヘキセンには硫黄が含まれないため、列挙した全てが硫黄化合物ではない。
解説・公式出典について
解説は学習支援用に作成したもので、試験実施機関による公式解説ではありません。 事実誤認・選択肢の取り違え・最新法令の反映漏れ等を含む可能性があるため、 重要な判断は必ずリンク先の公式資料でご確認ください。
最終更新:
出典:一般財団法人日本ガス機器検査協会「令和7年度ガス主任技術者試験(甲種)」ガス技術 問5(問題・正答)。解説は過去問AIの独自作成です。
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