ゲート下の酸化物は絶縁層である。P形基板上でN形のドレインとソースを結ぶNチャネルを作る構造に合う。
2026年3月試験 第二級海上無線通信士 無線工学の基礎 問11(a)
難度
標準
第二級海上無線通信士 無線工学の基礎 A11
選択肢
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MOSは金属・酸化物・半導体の積層で、Gと基板の間を酸化物で絶縁する。原図ではP形基板にN形D/Sを設けるのでNチャネル形である。
各選択肢の解説
- 1
導体(金属膜)／P
Gの金属電極とP形基板との間は絶縁酸化膜であって導体ではない。図のD/SがN形なのでチャネルもNである。
- 2
導体(金属膜)／N
Nチャネルは合うが、ゲートと基板を隔てる層を金属導体とした点が誤り。
- 3
絶縁体(酸化物)／P
絶縁酸化膜は合うが、N形のD/S間に形成するのは電子を担体とするNチャネルである。
- 4
絶縁体(酸化物)／N
ゲート下の酸化物は絶縁層である。P形基板上でN形のドレインとソースを結ぶNチャネルを作る構造に合う。
この解説は？
解説・公式出典について
解説は学習支援用に作成したもので、試験実施機関による公式解説ではありません。 事実誤認・選択肢の取り違え・最新法令の反映漏れ等を含む可能性があるため、 重要な判断は必ずリンク先の公式資料でご確認ください。
最終更新:
出典：公益財団法人日本無線協会 第二級海上無線通信士 2026-03 無線工学の基礎 A11（問題・正答）。原問の図・数式・語群は公式原紙の画素で保持。解説は独自作成。
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